제품 설명
-마스크리스 리소그래피는 느리고 비싼 포토마스크를 사용하지 않고도
나노패턴을 만드는 편리한 방법을 제공합니다.
이는 특히 연구 및 신속한 프로토타입 제작 목적에 유용합니다.
-POLOS Beam Laser Writer 은 성능에 영향을 미치지 않으면서
이러한 이점을 데스크톱에 제공하는 합리적인 소형 솔루션입니다.
-POLOS Beam Laser Writer 는 UV 레이저 빔을 사용하여 포토레지스트의
모든 패턴을 노광할 수 있는
정밀한 지점을 만드는
퀵스왑 가능한 리소그래피 시스템 입니다.
-대형 웨이퍼를 노광하기 위해 정밀한 스테퍼가 웨이퍼를 이동하고
여러 노광을 함께 스티칭합니다.
-POLOS Beam Laser Writer 은 405nm 엔진과 20배 대물렌즈를
장착할 경우 4인치 웨이퍼에서 (CD) 0.8μm보다 작은 피처를
생성할 수 있습니다.
Compact : 데스크톱 컴퓨터보다 작은, 모든 기능을 갖춘
마스크리스 리소그래피입니다.
Powerful: 2초 이내에 쓰기 필드를 노출하면서 서브마이크론
분해능을 제공합니다.
Ultrafast Autofocus :피에조 액추에이터는 폐쇄형 루프 초점 광학 장치와
결합하면 1초 이내에 초점에 도달합니다.
편리한 다층 반자동 정렬을 통해 몇 분 안에 다층 정렬을 완료할 수 있습니다.
포함된 소프트웨어는 모든 패터닝 작업을 빠르게 처리합니다.
로드하고, 정렬하고, 노출하기만 하면 됩니다.
탐색은 CNC 시스템과 비슷합니다.
Key features
-라이팅 해상도 < 1 μm
-Adjustable writing field and resolution with exchangeable objectives
Compatible with CAD files or bitmap images
Compatible with g-line photoresists
Compatible with a wide range of substrates (silicon, glass, metal, plastic, ... )
Compatible with any sample size up to 4” wafer Camera feedback for alignment steps
Key benefits
Time and money saving due to the absence of a hard-mask
lntuitive alignment method with direct overlay of the design on the sample
Table-top with very small foot print
Technology well suited for microelectronics, 2D-materials, microfluidics, optoelectronics, opties or any other 2D microfabrication application |
