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액상 에치 레지스트(Liquid etch resists) .

딥 코팅(Dip-Coating)

DiaEtch 100

스프레이 코팅(Spray-Coating)

DiaEtch 110

롤러 코팅(Roller-Coating)

DiaEtch 120

스핀 코팅(Spin-Coating)

DiaEtch 130

위의 솔벤트를 기초로한 포토이미지용 레지스트는 네거티브(negative) 액상 레지스트입니다.  UV에 대해서 대단히 민감하며 특히 350~420nm의 범위에서 사용합니다. 필름 두께에 따라서 현상 조이 변하며 후공정에 따라서 다양한 금속 및 합금에 우수한 접착성을 보여주며, 산에서의 에칭에 강합니다. 이상의 제품은 아크릴레이트를 기초로 하였으며 콘베어화된 현상-에치-박리 장비에서 우수한 특성을 보여줍니다.

 

딥 코팅(Dip-Coating)

DiaEtch 200 (experimental)

이 수용성 레지스트는 잘 알려진 카세인이 주 원료입니다. 감광 카세인 레지스트는 오래전부터 사요되어져 왔으며 특히 금속표면 가공에 우수한 성질을 보여줍니다.  그러나 크롬을 함유하고 있는 이러한 레지스트는 비싼 가격과 중금속을 포함한 부산물 때문에 대량으로 사용할수 없었습니다.  HTP AG 는 현재 크롬 레지스트를 대신할 포토레지스트를 개발하였습니다.

 

롤러 코팅(Roller-Coating)

DiaEtch 520 (experimental)

지금 시험중인 이 제품은 포지티브 레지스트로서 건조후 매우 우수한 표면 상태를 나타내며 하드컨택 프린팅에 우수하게 적용할수 있습니다. 코팅을 한 패널은 우수한 표면특성 때문에 에칭공정전 여러날을 적재하여도 특성의 변함이 없습니다.