DiaEtch 120

본 제품은 롤라 코팅에 최적입니다. 적용되는 레지스트의 두께에 따라서 고무롤러를 선택합니다. 48 메쉬의 롤을 9~11 마이크론의 두께에 사용합니다(적당한 스피드와 압력에서).T

특  성

Proper쇼

Value

               Unit

Method

색상(unexposed)

암청색

               n.a.

visual

색상(exposed)

청색

                n.a.

visual

점도@ 20°C

180

               sec

DIN Cup No.4

점도@ 20°C

850

                mPas

Brookfield #3 @ 50 rpm

밀도(liquid)

1.05

               g/cm³

gravimetric

밀도(solid)

1.25

               g/cm³

gravimetric

고형 성분

40

               %wt

gravimetric

광감성(Photosensitivity)

4 - 5

          Stouffer SSG21

see processing

표면

hard-

contact exposure

                 n.a.

 

exposure in vacuum frame

 

공  정

Process step

공 정 조 건

적  용

Roller-coating with 32 to 64 mesh rubber-roller

Flash-off

~1 min at room temperature

Drying

5 - 10 min @ 80°C in convection oven

노광(Exposure)

100 - 200 mJ/cm² (300 - 350 nm)

현상(Developing)

1% aqueous sodium carbonate; 35°C; 30 - 60 sec

에칭(Etching)

suitable for acidic media (ferric chloride, cupric chloride); limited stability in alkaline etchants (aqueous ammonia)

박리(Stripping)

2 - 5% potassium hydroxide at 50-90°C

 

RC380.jpg (532514 bytes)

SYSTRONIC Roller-Coating/Drying line

프리 클리닝 공정에서 패널은 좌후방에서 투입됩니다. 패널은 한쪽으로 밀리면서 코팅 장치쪽으로 진행합니다. 코터는 헤파필터를 장치한 클린룸 캐비넷 내부에 위치하고 있습니다. 양면 코팅된 패널은 그립 체인으로 들어올려서 간단한 플래쉬 오프와 오븐으로 향합니다. 라미나 에어 플로우는 외부에서 코팅부로 흐릅니다. 여기에서 포토레지스트는 적외선 램프로 가열되어지며 건조 됩니다. 라인의 마지막에서 패널은 상온에서 냉각되며 다음 공정의 투입을 기다립니다.