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PETS Inc. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System. Table
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PETS Inc.
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System (With Floor Model
Option).
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Systems은 보통 기판위에 실리콘 다이옥사이드, 실리콘 나이트라이드등의
유전층을 증착하는데 사용합니다.전도성 아모퍼스 실리콘도 이 시스템에서
증착합니다..
Key Benefits
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컴퓨터로 제어하는 시스템으로서
런투런이 동일한 결과를 제공합니다 |
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모든 자동 런에 대해서
데이터를 저장합니다
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무제한의 런 프로그램
저장(.rcp files)
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챔버는 산화피막 알미늄이나
스텐레스 스틸에서 선택학수 있습니다.
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수냉식 전극, 챔버, 베이스
플레이트
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Aluminum Oxide (ceramic)
인슐레이터
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N2 purge(선택 사양)
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+ - 5% uniformity
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공정 setup 지원.
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시스템은 mechanical
pump (14 cfm)와 connecting fitting이 기본입니다
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high frequency (13.56
MHz) or low frequency(40 KHz) power supplie를 선택할수
있습니다
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선택사양: 다운스트림
압력 콘트롤, 터보 펌프, 스크러버, 오일 휠트레이션 및
Floor Model Cabinet.additional 및 AFC's |
Description |
MODEL # |
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12" Al. Chamber,
w/4 AFC's , Low Freq. RF |
PETS-PECVD-A12-4-LF |
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12" SS Chamber,
w/4 AFC's , Low Freq. RF |
PETS-PECVD-SS12-4-LF |
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16" Al. Chamber,
w/4 AFC's, Low Freq. RF |
PETS-PECVD-A16-4-LF |
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16" SS Chamber,
w/4 AFC's, Low Freq. RF |
PETS-PECVD-SS16-4-LF |
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12" Al. Chamber,
w/4 AFC's , High Freq. RF |
PETS-PECVD-A12-4-HF |
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12" SS Chamber,
w/4 AFC's , High Freq. RF |
PETS-PECVD-SS12-4-HF |
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16" Al. Chamber,
w/4 AFC's, High Freq. RF |
PETS-PECVD-A16-4-HF |
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16" SS Chamber,
w/4 AFC's, High Freq. RF |
PETS-PECVD-SS16-4-HF |
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