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         PETS Inc. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System. Table Top

PETS Inc. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System (With Floor Model Option).

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Systems은 보통 기판위에 실리콘 다이옥사이드, 실리콘 나이트라이드등의 유전층을 증착하는데 사용합니다.전도성 아모퍼스 실리콘도 이 시스템에서 증착합니다..

Key Benefits

컴퓨터로 제어하는 시스템으로서 런투런이 동일한 결과를 제공합니다

모든 자동 런에 대해서 데이터를 저장합니다

무제한의 런 프로그램 저장(.rcp files)

챔버는 산화피막 알미늄이나 스텐레스 스틸에서 선택학수 있습니다.

수냉식 전극, 챔버, 베이스 플레이트

Aluminum Oxide (ceramic) 인슐레이터

N2 purge(선택 사양)

+ - 5% uniformity

공정 setup 지원.

시스템은 mechanical pump (14 cfm)와 connecting fitting이 기본입니다

high frequency (13.56 MHz) or low frequency(40 KHz) power supplie를 선택할수 있습니다

선택사양: 다운스트림 압력 콘트롤, 터보 펌프, 스크러버, 오일 휠트레이션 및 Floor Model Cabinet.additional  및 AFC's

Description

MODEL #       

12" Al. Chamber, w/4 AFC's , Low Freq. RF

PETS-PECVD-A12-4-LF    

12" SS Chamber, w/4 AFC's , Low Freq. RF

PETS-PECVD-SS12-4-LF 

16" Al. Chamber, w/4 AFC's, Low Freq. RF

PETS-PECVD-A16-4-LF    

16" SS Chamber, w/4 AFC's, Low Freq. RF

PETS-PECVD-SS16-4-LF

12" Al. Chamber, w/4 AFC's , High Freq. RF

PETS-PECVD-A12-4-HF    

12" SS Chamber, w/4 AFC's , High Freq. RF

PETS-PECVD-SS12-4-HF

16" Al. Chamber, w/4 AFC's, High Freq. RF

PETS-PECVD-A16-4-HF    

16" SS Chamber, w/4 AFC's, High Freq. RF

PETS-PECVD-SS16-4-HF

 

JSiTS Inc.

Tel)031-479-4211~2   Fax)031-479-4213

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E-mail;JSi@JSiTS.com